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2022-05
近年來,隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,芯片技術(shù)水平也在逐步提高。較小的工藝可以在相同尺寸的硅晶片上容納更多數(shù)量的芯片,從而可以提高芯片的計(jì)算效率; 這也使芯片消耗更少的功率。然而,半導(dǎo)體器件的制造涉及僅幾個(gè)納米的測量結(jié)構(gòu)。芯片尺寸的減小也有其物理上的局限性。摩
2022-05
芯片的設(shè)計(jì)和制造要經(jīng)歷一個(gè)非常復(fù)雜的過程,可以分為3個(gè)階段: 前端設(shè)計(jì) (邏輯代碼設(shè)計(jì)) 、后端設(shè)計(jì) (布線工藝) 、芯片生產(chǎn) (核心制造、測試和封裝)。一個(gè)高性能的芯片在數(shù)百平方毫米的硅晶片上蝕刻數(shù)十億個(gè)晶體管,而晶體管之間的間隔只有數(shù)十納米,它需
2022-05
一般充電器采用高效率的升降壓芯片。充電器在手機(jī)充電過程中出現(xiàn)發(fā)熱是正常現(xiàn)象: 轉(zhuǎn)換時(shí)有交直流電源損耗,充電時(shí)電量大,導(dǎo)致手機(jī)電池發(fā)熱。此外,CPU操作的高頻率也會(huì)導(dǎo)致手機(jī)的電池和屏幕發(fā)熱。當(dāng)手機(jī)充電時(shí)感覺熱的時(shí)候,拿1小片方巾,蘸些酒精,涂在熱的位置
2022-05
與光刻機(jī)的壟斷巨頭ASML相比,光刻機(jī)采用365納米波長的光源,具有更長的波長和更低的紫外光成本。而且,光刻機(jī)可以實(shí)現(xiàn)22納米的工藝芯片,這在國際上還是首例。光刻機(jī)的出現(xiàn),以及超分辨率光刻設(shè)備項(xiàng)目的順利實(shí)施,標(biāo)志著中國打破了國外高科技?jí)艛嗪驮O(shè)備禁運(yùn),
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芯片制造離不開光刻機(jī),光刻機(jī)也是芯片制造的核心設(shè)備之一。在此之前,中國沒有制造光刻機(jī)的能力。長期以來,中國的芯片產(chǎn)業(yè)受制于人。光刻機(jī)只能依靠從荷蘭ASML進(jìn)口的EVU光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。它經(jīng)常會(huì)遇到各種不公平的限制,例如在國外的卡脖子和禁止銷售。國內(nèi)大多
2022-05
我國大部分芯片一直依賴進(jìn)口,這在很大程度上制約了國內(nèi)科技的發(fā)展。自 “中興事件” 發(fā)生后,中國人已經(jīng)清楚地認(rèn)識(shí)到?jīng)]有核心技術(shù),一旦受到制裁,就會(huì)面臨癱瘓?!爸信d事件” 給國人敲響了警鐘,認(rèn)清了落后就要挨打的事實(shí)。中國的 “核心打造” 迫在眉睫,只有掌